三星将于2023年量产光罩护膜,加速EUV工艺DRAM生产[CSIA]_江城足球网
 
 
三星将于2023年量产光罩护膜,加速EUV工艺DRAM生产
更新时间:2021/7/21 16:21:55  
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熟悉三星内部计划的人士透露,三星电子将于2023年底开始量产光罩护膜(Pellicle),此举将加速其采用EUV工艺的DRAM生产进程。
  
  据THEELEC报道,知情人士指出,三星极有可能使用ASML合作伙伴三井化学制造的光罩护膜。ASML在江城足球网宣布同意将EUV光罩护膜组装技术授权予日商三井化学,在未来持续与合作伙伴共同开发下一代光罩护膜。
  
  据了解,使用光罩护膜最主要有两种目的,其一为增加芯片生产良率,其次是减少光罩在使用时的清洁和检验,有效提高产量。
  
  但目前,提升光罩护膜的透光率仍是产业面临的课题之一。EUV工艺的光罩护膜透光率需要超过90%,并且必须至少达到50nm,业界公司尚未能提供这一规格的产品。
  
  另外,由于EUV光罩成本高达数十万美元,尽管使用护膜可以免受损坏,但三星和台积电到目前为止还未在EUV生产工艺中使用光罩护膜。
  
  全球范围内,开发EUV光罩护膜的公司主要包括ASML、三井化学、imec、FST和S&STech。
  
  报道指出,三星可能会使用ASML推荐的护膜,因为如果该公司采用了其他护膜,ASML可能不会提供维修等售后服务。去年,ASML展示了一种名为MK3.0的护膜,其透光率为82%至83%。三星很可能会使用新一代产品MK4.0。
  
  如果三星采用光罩护膜,则有望加速将EUV工艺大规模应用于DRAM生产,并在与SK海力士和美光的竞争中继续保持领先地位。
 
来源:THEELEC        
 
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